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微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300

微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300

微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300适合于多晶,单晶和纳米晶金刚石薄膜制备,以及纳米管,纳米线制备,镀膜,研究和生产。操作的基本原理是由微波放电形成的等离子体沉积合成金刚石。

ARDIS 300技术参数:

MW功率

6 千瓦@2.45 GHz

反应气体

可达5种,

H2 – 1000 sccm
O2 – 50 sccm
CH4 – 200 sccm
N2 – 1000 sccm
Ar – 1000 sccm

气处理压力

20-500  Torr

样品尺寸

可达100 mm (4″)

基低温度

可达1200°C

生长率

6mkm/小时(多晶)100mkm/小时(单晶),

1mkm=1μm

可视窗口

5个70mm CF石英窗口

真空腔

水冷真空不锈钢腔

附加选项

Z偏移,双光束高温计,直流偏置

操作系统

Windows操作系统,合成过程由Control Ardis程序控制

尺寸

1660x  880x 1840(mm),长x宽x高


ARDIS 300主要特点:

6 千瓦,2.45 GHz

可移动载物台 50 mm

小泄漏 < 10-9 torr·l/s

高真空 < 10-7 torr

纯度非常高

单个集成模块方便进行维修和维护


ARDIS 300制备金刚石过程:

1) 将氢气和碳氢化合物的混合物加入到腔室中。通常使用百分之几的甲烷。

2) 气体被强大的微波辐射电离,产生等离子体。

3) 等离子体产物,特别是原子氢和烃基,与基底表面相互作用。

4) 根据基底的选择和生长模式,可以生长各种各样的金刚石材料。典型工艺使用1000以上的温度和金刚石基底外延生长单晶金刚石。晶金刚石和金刚石镀膜通常在700以上的硅基底上生长。

ARDIS 300利用耐热和化学稳定的材料,如钼,以及对参数和等离子体的精确控制,以实现数百小时的稳定和可重复的生长条件。  


ARDIS 300应用:

电子学:半导体、微电子器件热沉,声学电子器件,MEMS,传感器,MW场效益晶体管

光学:高功率红外窗口器件,腐蚀性环境光学窗口器件,拉曼激光器

MW器件:超高功率振动陀螺和调速管窗片,非吸收辐射元件

医学、生态学:生物传感器,生物相容性涂层,用于水清洁电解的耐腐蚀电极(掺杂B和N的金刚石)

工具:钻石和宝石镀膜


相关图片:

CVD工艺示意图


金刚石薄膜的微观结构


ARDIS 300应用


关于俄罗斯OptoSystems公司:

      俄罗斯OptoSystems公司位于莫斯科,隶属于俄罗斯科学院基础物理研究所物理仪器中心(Physics Instrumentation  Center,A.M.Prokhorov’s General Physics Institute)。雇员超过40人。俄罗斯OptoSystems公司最重要的产品是准分子激光器。同时OptoSystems公司还开发出准分子激光器视力屈光矫正系统(LASIK),该系统已经获得中国政府颁发的销售许可证,并有数台已经在中国安装。俄罗斯OptoSystems公司的产品线还包括脉冲CO2激光器,YAG激光器等。


资料下载:

ARDIS 300

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