微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300
微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300适合于多晶,单晶和纳米晶金刚石薄膜制备,以及纳米管,纳米线制备,镀膜,研究和生产。操作的基本原理是由微波放电形成的等离子体沉积合成金刚石。
ARDIS 300技术参数:
MW功率 | 6 千瓦@2.45 GHz |
反应气体 | 可达5种, H2 – 1000 sccm |
气处理压力 | 20-500 Torr |
样品尺寸 | 可达100 mm (4″) |
基低温度 | 可达1200°C |
生长率 | 6mkm/小时(多晶)100mkm/小时(单晶), 1mkm=1μm |
可视窗口 | 5个70mm CF石英窗口 |
真空腔 | 水冷真空不锈钢腔 |
附加选项 | Z偏移,双光束高温计,直流偏置 |
操作系统 | Windows操作系统,合成过程由Control Ardis程序控制 |
尺寸 | 1660x 880x 1840(mm),长x宽x高 |
ARDIS 300主要特点:
6 千瓦,2.45 GHz
可移动载物台 50 mm
小泄漏 < 10-9 torr·l/s
高真空 < 10-7 torr
纯度非常高
单个集成模块,方便进行维修和维护
ARDIS 300制备金刚石过程:
1) 将氢气和碳氢化合物的混合物加入到腔室中。通常使用百分之几的甲烷。
2) 气体被强大的微波辐射电离,产生等离子体。
3) 等离子体产物,特别是原子氢和烃基,与基底表面相互作用。
4) 根据基底的选择和生长模式,可以生长各种各样的金刚石材料。典型工艺使用1000℃以上的温度和金刚石基底外延生长单晶金刚石。多晶金刚石和金刚石镀膜通常在700℃以上的硅基底上生长。
ARDIS 300利用耐热和化学稳定的材料,如钼,以及对参数和等离子体的精确控制,以实现数百小时的稳定和可重复的生长条件。
ARDIS 300应用:
电子学:半导体、微电子器件热沉,声学电子器件,MEMS,传感器,MW场效益晶体管
光学:高功率红外窗口器件,腐蚀性环境光学窗口器件,拉曼激光器
MW器件:超高功率振动陀螺和调速管窗片,非吸收辐射元件
医学、生态学:生物传感器,生物相容性涂层,用于水清洁电解的耐腐蚀电极(掺杂B和N的金刚石)
工具:钻石和宝石镀膜
相关图片:
CVD工艺示意图
金刚石薄膜的微观结构
ARDIS 300应用
关于OptoSystems公司:
OptoSystems雇员超过40人,最重要的产品是准分子激光器。同时OptoSystems公司还开发出准分子激光器视力屈光矫正系统(LASIK),该系统已经获得中国政府颁发的销售许可证,并有数台已经在中国安装。OptoSystems公司的产品线还包括脉冲CO2激光器,YAG激光器等。
资料下载:
ARDIS 300